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电解抛光过程中温度的变化会给电解抛光带来很大的影响。如图所示，是温度对阳极曲线的影响曲线。随着电解液温度的升高，极限扩散电流逐渐增大，当温度高于90度时，表面抛光的起始电流密度大，阳极铜片的溶解速度过快，因而铜片表面易生成点状或条状腐蚀。当电解液温度低于60度时，传质过程慢，抛光起始电流密度太低，阳极铜片的溶解速度慢，溶解下来的离子不能很快的扩散开来，容易在阳极表面形成铜离子和HEDP的多核配合物，使铜片表面出现蓝色沉淀物膜或麻点。因此，对应任何一种电化学抛光液，均有一个 的抛光温度范围。对于HEDP电抛光铜而言， 的温度范围是70-80度。
在电解抛光设备中阳极与阴极间的距离应兼顾一下几个因素：
1.便于调整电流密度到工艺规范，并尽量使抛光件表面的电流密度分布的均匀一致。
2.尽量减少不必要的能耗，因电解液浓度高，电阻大，耗电能较大。
3.阴极产生的气体搅拌是否已破坏了黏液层，降低了抛光效果。
具体极间距离的选用，应视被抛光物件的大小和工艺要求灵活掌握。一般来说，大制件的极间距离可以大些，小型制件货中型制件的局部抛光，极间距离大多为10mm-20mm左右，大型制件抛光的极间距离应选取80mm-100mm。用于去毛刺作业的电解抛光，极间距离在50mm左右为宜。
金辉杰电解抛光设备厂
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