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本文中提到的不锈钢可被认为是合金中不生锈低含铬量13%的不锈钢。更为常见的不锈钢含铬量大于17%,同时加入镍和钼。显微组织可以是铁素体、奥氏体或双相组织。
在要求纯净度极高的系统中越来越多地使用的是奥氏体铬-镍-钼钢,表面处理对于可达到的操作结果是至关重要的。电解抛光被证明是能满足这些要求的一种和经济的操作工艺。2 纯净度标准
适合在高纯净度要求的系统中使用的表面取决于两个性质:
?表面本身不应当将任何物质转移到接触介质。
?不应当有外部杂质粘附到表面,表面也不能与周围的介质产生催化反应。
个性质称为表面纯净的‘内因’,第二个性质称为‘外因’。
表面内部纯净主要是由耐腐蚀性、材料微粒析出性能和扩散性能决定的。对于耐腐蚀的钢,这些性能很大程度上决定于表面下层材料的状况,通过电解抛光可对它们产生影响,并得到显著提高。
对于外部纯净度,不锈钢表面的粘附和清洁性能,同样还有它们的钝化性以及催化行为主要是由表面的能量状态和显微结构决定的。通过电解抛光可很大程度地直接影响这两种性能。
电解抛光设备定义
电化学抛光也称电解抛光。电解抛光是以被抛工件为阳极,不溶性金属为阴极,两极同时浸入到电解槽中,通以直流电而产生有选择性的阳极溶解,从而使工件表面光亮度增大,达到镜面效果。
二、电解抛光设备原理
凸处较薄,凹处较厚,因凸起处电流密度高而溶解快,全球各界人士争论很多,被大家公认的主要有黏膜理论。该理论主要为:工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面,这种黏膜在凸起处较随黏膜流动,凹凸不断变化,以使工件粗糙表面逐渐被整平的过程。
电解抛光设备所需条件和配置
(1)电源:电源可选用双相220V,三相380V。
(2)电解抛光对电源波形要求不是太严格,可选用高频整流器。整流器空载电压:0—20v②负载电压(工作电压):8—10v注:工作电压低于6v,抛光速度慢,光亮度不足。整流器电流:根据客户工件大小而定。
(3)电解槽及配套设施(阳极棒):在槽上装三根电极棒,中间为可移动的阳极棒,接电源阳极(或正极),两侧为阴极棒,连接电源阴极(负极)。
(4)加热设施及冷却设备:①加热可选用石英加热管,钛加热管。②冷却可选用盘管,盘管可冷却。
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