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随着超大规模集成电路的特征线宽不断减小,导致信号传输延时、功耗增大以及互连阻容耦合增大等问题,为了解决这一问题,多孔低(超低)k介电材料越来越引起人们的注意。通过在前驱气体D5源中添加甲烷,由ECRCVD沉积技术制备出了SiCOH薄膜,由于在SiCOH低k薄膜的致孔工艺及后道工艺中,薄膜需要经受400～450℃的热冲击,因此首先对不同甲烷流量下真空退火前后薄膜的结构、表面形貌和湿水性进行了研究。在真空热处理过程中,热稳定性较差的碳氢基团发生了热解吸,使Si-O-Si网络结构以及链式结构发生交联而形成鼠笼结构,从而提高了薄膜中孔隙的含量,并使薄膜表面更平整。但是,由于碳氢基团的热解吸以及结构的重组降低了薄膜的厚度,并且热解吸还导致薄膜的疏水性能降低。其次真空热处理降低了薄膜的漏电流,并且使SiCOH/Si界面的界面态发生改变。
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在基体表面镀膜或涂层能有效增强材料结构表面性能，从而满足工程实际需要。多层膜的周期性结构，使它显示出奇特的力学、电学、磁学、光学特性，由于各层之间的相互影响，使整个多层膜系统的物理性质不同于组成它的单种材料的特性。在实际的应用中表面多层膜体系也往往显示出更多的优势。因此对薄膜－基体复合材料的研究就有着重要的意义。在对多层膜的实验研究中，纳米硬度实验是一种重要的研究手段，但是目前还存在着误差比较大、结果比较分散的问题。本文主要通过对纳米硬度实验的模拟，对多层膜在压头压入情况下的应力应变响应进行了计算模拟，将三维的Vickers压头简化成二维的夹角136°的楔形压头，简化成了一个平面应变问题，并假设压头是刚性的，而膜体材料和基体材料假设成是各向同性的理想弹塑性材料，并遵循Mises屈服条件，压头与膜层的接触考虑摩擦。由于这是个物理非线性和边界条件非线性的问题，所以采用了增量迭代计算方法。并在FEPG有限元自动生成系统平台上，自行编制了符合本文需要的计算程序。 利用该模型和程序进行了以下计算研究：1、本文分析了膜层中软膜的材料差异对膜层应力的影响，软层材料分别选为Al和Ti时，得到当软膜在上时
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